国产光刻机“三箭齐发”中国半导体频传好消息任正非说的没错

  在芯片的制作的完整过程中，光刻机是最核心的设备，没有光刻机，任何代工厂都没办法完成芯片的量产工作，哪怕技术再领先也无法改变这个事实。而且芯片的制程取决于光刻机的精度，越是高端的光刻机，制造出来的芯片越是先进，二者的联系非常紧密。

  目前全球能生产出高端光刻机的厂商只有荷兰的AMSL公司，由它出口的EUV光刻机最高能满足7nm和5nm芯片的制造要求。在去年下半年，世界上的排名前二的代工厂台积电和三星，分别先后实现了5nm芯片的量产，而它们不能离开ASML的EUV光刻机。

  事实上，台积电和三星之所以能在半导体行业享有这么高的地位，主要是因为它们拥有着数量最多的光刻机，无论是普通的还是高端的，都远超其它代工厂。此前，我们国内大陆的半导体公司也曾想过向ASML进购光刻机，但结果却让人很是失望。

  由于相关协议和美国的从中阻挠，ASML无法向国内自由出货光刻机，尤其是最高端的EUV光刻机，更是会受到重重管制。因此，直到现在国内连一台EUV光刻机都没有，就算有钱也买不到，这直接引发了国产芯片的发展跟不上国外的脚步。

  所以说，国内的芯片事业最缺乏就是光刻机，其它方面并不落后于国外。就拿芯片设计来说，国内的华为海思、紫光展锐等公司都达到了顶尖水平，设计7nm和5nm芯片也不在话下，只是无法单独完成相关芯片的生产工作而已。

  不过，随着国内对半导体产业的进一步重视，光刻机也开始迎来了一定的转机。最近，国产光刻机“三箭齐发”，中国半导体频传好消息，让国人对国产芯片的崛起充满了希望！

  首先，根据一手消息显示，国内半导体巨头晶瑞股份于日前从ASML公司买到了一台DUV光刻机，并且已经到货了。虽然这台DUV光刻机不如EUV先进，而且晶瑞股份并不打算将其用于芯片制造，但是至少可以稍微弥补一下国内光刻机短缺的劣势。

  而关于这台DUV光刻机会被用于什么领域，晶瑞股份也给出了明确的回答，其表示将会利用ASML的光刻机，研发高端的光刻胶。与光刻机相同的是，光刻胶同样是芯片制作的完整过程中的必需品，只不过光刻机是一种设备，而光刻胶则是一种材料。

  其次，国内另一家巨头大族激光也开始布局光刻机市场，并且批量生产出了部分低端的光刻机，目前已确定进入了客户销售阶段。据投资者提问的内容显示，大族激光生产出的光刻机在3~5μm，尽管精度比较落后，但是填补国内的空缺绰绰有余。

  最后，国内最先进的光刻机厂商上海微电子也传来了突破的消息，由它自主生产出的28nm光刻机将于今年年底正式投入到正常的使用中。28nm的光刻机已能满足大部分芯片的生产条件，只要上海微电子的投产计划顺顺利利地进行，国产芯片的自给率就会节节攀升！

  以上这三个消息就是国产光刻机“三箭齐发”的主要内容，虽然不能完全解决国内光刻机短缺的问题，但是却可以为国产芯片事业带来新的希望。

  同时，中国半导体频传好消息也证明了，任正非说的没错：国产芯片迟迟无法崛起不是因为设计能力不行，而是在于基础工业水平不足。正是因为国内以现有的工业基础造不出来高端的光刻机，国产芯片才无法突破到更高的层次。

  但是在国内各大半导体公司和无数科研人员的共同努力下，目前国产光刻机正在朝着崛起的方向进步，或许要不了多久就能传来更多的好消息。相信总有一天，国内的芯片事业一定能后来居上，真正的完成自主化和国产化的目标！

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