EUV光刻的三大中心技能日本把握2项荷兰把握1项

  EUV光刻机、EUV掩模和EUV光刻胶，这三项是分隔的，不是整合在一起的。

  ASML把握的这一项，很简略，便是EUV光刻机，究竟现在全球也只要ASML能制作出EUV光刻机来，EUV光刻机是荷兰ASML的独家生意。

  而日本把握了EUV掩膜、EUV光刻胶。关于EUV光刻胶，大多数人应该常常听说了，日本也是全球仅有可以出产的，和荷兰的EUV光刻机相同，拿下了全球100%的市场比例。

  EUV掩膜是什么呢？EUV掩膜是什么呢？它是芯片进行光刻时的母板，制作芯片时，先要制作出掩膜，再用光线来照耀掩膜，终究将上面的

  上，刻到晶圆上。但EUV掩膜，可不仅仅是一张膜板这么简略，是一整套体系，包含EUV 薄膜（Pellicle）等组成，其间EUV 薄膜是一种超薄薄膜形状的、需求定时替换的高端消耗品，用来维护掩膜板，十分有技能难度，也是整套EUV掩膜体系中的中心。

  资料，但是日本的强项，所以日本的厂商在EUV 薄膜这方面最强，拿下了全球大部分比例。

  石墨烯EUV薄膜、碳纳米管EUV薄膜等，但至少现在还无法与日本的企业比美。可见，要进入5nm，咱们要补的课还许多，还要霸占许多技能才行，先别欢腾，路得渐渐的一步步走。