我国最新一代集成电路制作工艺研制获得突破性发展

  近年来，个人会运用的电脑、手机等速度更快、耗电更省、本钱更低，这有赖于集成电路制作工艺的渐渐的提高。记者近来从中国科学院微电子研究所得悉，该所集成电路先导工艺研制中心在２２纳米技能代集成电路要害研制技能上获得突破性发展，把握这种最先进的集成电路制作工艺将有利于提高我国自主出产制作愈加质优价廉的集成电路产品的才能。

  ２２纳米技能代集成电路技能是全球正在研制的最新一代集成电路制作工艺，各国都投入了巨大资金，谁先把这种技能开发出来，谁就能下降集成电路产品的本钱，抢占市场先机。多年来，我国的集成电路制作工艺大多是在引入国外知识产权根底上进行产品工艺开发，在全球产业链最先进工艺的开发上短少布局和线年，我国在国家科技严重专项的支持下开端２２纳米技能代集成电路要害研制技能工作，通过３年多尽力获得突破性发展。

  据介绍，２２纳米约相当于一般成年人头发丝直径的２３００分之一，选用２２纳米集成电路技能能在一根头发丝的横截面上集成大约１０００万个晶体管，从而使集成电路产品的功用更多样化，速度更快，本钱更低。研究人员摒弃了传统的二氧化硅、多晶硅等资料，选用了高Ｋ资料、金属栅资料等新资料新工艺，研制出了性能好的器材，技能水平到达国内抢先、世界一流。

  研制过程中，中国科学院与北京大学、清华大学、复旦大学的联合项目组完成了１３６９项专利申请，这中心还包含４２４项世界专利申请，为我国在集成电路范畴把握自主知识产权，获得世界话语权奠定了根底。该效果的获得也为我国持续自主研制更先进的１６纳米及以下技能代的要害工艺供给了必要的技能支撑。

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